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CMSD2000-納米鈦高剪切研磨分散機
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貨物所在地: 上海上海市
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更新時間: 2020-08-20 09:43:36
期: 2020年8月20日--2021年8月20日
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產品簡介

納米鈦研磨分散機,納米鈦高剪切研磨分散機立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。

詳細介紹

納米鈦研磨分散機,納米鈦高剪切研磨分散機,管線式納米鈦研磨分散機,超細納米鈦研磨分散機,連續式納米鈦研磨分散機

安徽某企業與北京大學、北京科技大學、復旦大學的專家合作攻關,大膽采用鈦酸鋰為負極材料,以及增加壓縮應變恒壓閥等核心技術,歷時4年研發出了安全、環保、長壽命的新一代納米鈦酸鋰電池產品,無論在性能以及體積比上都大大超越了其他鋰電池產品,避免了普通鋰離子電池有高比能量、高比功率、高能量轉換效率、長循環壽命等優點,但存在低溫時難以放電和充電等問題。

納米鈦酸鋰電池在零下30攝氏度到零上55攝氏度的情況下,充放電往返能量轉化效率在86%~91%以上,性能十分優越。相較而言:普通鋰離子電池充放電循環壽命在5000次左右,納米鈦酸鋰電池循環壽命可達20000次以上,使用期限超過15年。目前,該公司試生產的電池已廣泛應用于電動汽車、電動自行車、電動叉車、搬運車、巡邏車、觀光車,將來還可用于對電池安全性要求較高的電動大巴、礦用工程車以及jun用和航天等領域。

納米鈦研磨分散機,納米鈦高剪切研磨分散機,管線式納米鈦研磨分散機,超細納米鈦研磨分散機,連續式納米鈦研磨分散機

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前設備轉速的4-5倍。

 

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。

CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 

研磨分散機的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

 

2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

,管線式納米鈦研磨分散機,超細納米鈦研磨分散機,連續式納米鈦研磨分散機

設備核心參數:

設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7。5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到大允許量的10%

研磨分散機的應用領域:

  1. 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
  2. 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
  3. 農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑
  4. 生物醫藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
  5. 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發用品、牙膏、日用香精
  6. 食品工業、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
  7. 涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土
  8. 造紙工業、紙漿、膠黏劑、松香分散、碳酸鈣、填料助劑、顏料混合、樹脂乳化
  9. 環境保護、廢水、污水處理、改質、回收利用
  10. 其它:造紙、陶瓷泥釉、除銹劑、滑石粉

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